《光電半導體應用研究-氧化鎢電致變色》

本次畢業專題研究利用磁控濺鍍系統將氧化鎢WO3至玻璃基材上，以用來取代傳統玻璃，且利用調整氧氣流量改變氧化鎢WO3的化學性質，讓光學性質有所改變。

電致變色的「變色技術」即是指材料受到外部刺激造成結構發生變化，使其顏色有了改變，及本次的實驗材料為氧化鎢WO3。這些外部刺激可以是光、溫度或電場等等，若是因光所造成的變色，稱之「光致變色」；因溫度改變所引起的顏色變化，則稱之「熱致變色」；因電場造成可逆的顏色變化，則是「電致變色」，為此專題的研究主題。

本研究利用磁控濺鍍系統將氧化鎢(WO3)濺鍍致ITO基材上，取代傳統玻璃，並探討磁控濺鍍WO3氧化鎢在固定氬氣流量、工作壓力、濺鍍功率、薄膜厚度情況下，改變氧氣流量下的各項變化。本次實驗所使用SEM顯微鏡、Four－point四點探針、a－step、UV visible等多樣儀器進行材料特性分析，以了解在不同氧氣流量下的WO3氧化鎢光穿透率、電阻值、導電性值的差異，最後測出濺鍍WO3氧化鎢薄膜最佳氧氣流量為5sccm。